MPCVD
معدات نظام ماكينات HFCVD لرسم طلاء القوالب النانوية الماسية النانوية
رقم العنصر : HFCVD-100
السعر يتغير بناءً على المواصفات والتخصيصات
- درجة التفريغ القصوى
- 2.0×10-1 باسكال
- سماكة طلاء الماس
- 10 ~ 15 مم
- العمر الافتراضي للخدمة
- 6-10 مرات أطول
الشحن:
اتصل بنا للحصول على تفاصيل الشحن استمتع ضمان التسليم في الموعد المحدد.
نظرة عامة مرئية: نظام الترسيب الكيميائي بالترسيب الحراري للبخار عالي الكثافة لطلاء الماس
اكتشف نظام KINTEK المتطور للترسيب الكيميائي للبخار بالفتيل الساخن (HFCVD)، المصمم بخبرة لإنتاج طلاءات مركّبة عالية الجودة من الماس النانوي. هذا النظام مثالي للتطبيقات التي تتطلب صلابة فائقة ومقاومة للتآكل والاحتكاك المنخفض، مثل تحسين أداء وعمر قوالب سحب الأسلاك.
المواصفات الفنية
| التركيب التقني HFCVD | ||
| المواصفات الفنية | تكوين المعدات | تكوين النظام |
| جرة الجرس ضياء. 500 مم، الارتفاع 550 مم، حجرة من الفولاذ المقاوم للصدأ SUS304؛ عازل داخلي من الفولاذ المقاوم للصدأ، ارتفاع الرفع 350 مم; | مجموعة من الهيكل الرئيسي لغرفة التفريغ (جرة الجرس) (هيكل تبريد الماء المغلف) | الجسم الرئيسي لغرفة التفريغ (جرة الجرس)؛ التجويف مصنوع من الفولاذ المقاوم للصدأ 304 عالي الجودة؛ جرة الجرس العمودية: يتم تثبيت سترة تبريد الماء المغلفة على المحيط الكلي لجرّة الجرس. الجدار الداخلي لجرّة الجرس معزول بجلد من الفولاذ المقاوم للصدأ، ويتم تثبيت جرة الجرس على الجانب. وضع دقيق ومستقر؛ نافذة المراقبة: مرتبة أفقيًا في منتصف حجرة التفريغ 200 مم نافذة مراقبة أفقية في منتصف حجرة التفريغ نافذة مراقبة 200 مم، تبريد الماء، الحاجز، الجانب والتكوين العلوي بزاوية مائلة 45 درجة، نافذة مراقبة 50 درجة (مراقبة نفس نقطة نافذة المراقبة الأفقية، ومنصة دعم العينة)؛ تحافظ نافذتا المراقبة على الوضع والحجم الحاليين؛ قاع جرة الجرس أعلى 20 مم من مستوى المقعد، مجموعة التبريد؛ الفتحات المحجوزة على المستوى، مثل الصمامات الكبيرة، صمامات تحرير الهواء، قياس ضغط الهواء، الصمامات الالتفافية، إلخ, مختومة بشبكة معدنية ومحجوزة لتركيب الأقطاب الكهربائية الواجهة; |
| جدول المعدات: طول 1550* عرض 900* عرض 900* ارتفاع 1100 مم | مجموعة واحدة من جهاز طاولة عينة السحب (اعتماد محرك مزدوج المحور) | جهاز حامل العينة: حامل عينة من الفولاذ المقاوم للصدأ (لحام تبريد الماء) جهاز 6 وضعيات؛ يمكن ضبطه بشكل منفصل، فقط تعديل لأعلى ولأسفل، نطاق التعديل لأعلى ولأسفل هو 25 مم، ويجب أن يكون الاهتزاز الأيمن والأيسر أقل من 3٪ عند الصعود والهبوط (أي أن الاهتزاز الأيسر والأيمن للارتفاع أو الانخفاض بمقدار 1 مم أقل من 0.03 مم)، ولا تدور مرحلة العينة عند الارتفاع أو الانخفاض. |
| درجة الفراغ النهائية: 2.0×10-1 باسكال; | مجموعة من نظام التفريغ | نظام التفريغ: تكوين نظام التفريغ: مضخة ميكانيكية + صمام تفريغ + صمام نزيف مادي + أنبوب عادم رئيسي + ممر جانبي؛ (مقدم من مورد مضخة التفريغ)، يستخدم صمام التفريغ صمامًا هوائيًا؛ قياس نظام التفريغ: ضغط الغشاء. |
| معدل ارتفاع الضغط: ≤5 باسكال/ساعة; | نظام إمداد الغاز بمقياس تدفق الكتلة بقناتين | نظام إمداد الغاز: يتم تكوين مقياس التدفق الكتلي بواسطة الطرف B، مدخل الهواء ثنائي الاتجاه، يتم التحكم في معدل التدفق بواسطة مقياس التدفق الكتلي، بعد الاجتماع ثنائي الاتجاه، يدخل إلى غرفة التفريغ من الأعلى، وداخل أنبوب سحب الهواء 50 مم |
| حركة طاولة العينة: نطاق صعودًا وهبوطًا هو ± 25 مترًا؛ مطلوب اهتزاز النسبة إلى اليسار واليمين عند الصعود والهبوط بنسبة ± 3%; | مجموعة واحدة من جهاز القطب الكهربائي (2 قناة) | جهاز القطب الكهربائي: يكون اتجاه طول فتحات القطب الأربعة موازيًا لاتجاه طول منصة الدعم، ويكون اتجاه الطول مواجهًا لنافذة المراقبة الرئيسية بقطر 200 مم. |
| ضغط العمل: استخدام مقياس ضغط مقياس الغشاء، نطاق القياس: 0 ~ 10 كيلو باسكال؛ العمل ثابت عند 1 كيلو باسكال ~ 5 كيلو باسكال، تتغير قيمة الضغط الثابت زائد أو ناقص 0.1 كيلو باسكال; | مجموعة من نظام مياه التبريد | نظام مياه التبريد: جرة الجرس، والأقطاب الكهربائية، واللوحة السفلية كلها مجهزة بأنابيب تبريد مياه التبريد الدائرية، ومجهزة بجهاز إنذار تدفق المياه غير الكافي 3.7: نظام التحكم. يتم ضبط المفاتيح والأدوات والأدوات والأدوات وإمدادات الطاقة لرفع الجرس، والتفريغ، ومضخة التفريغ، والطريق الرئيسي، والطريق الجانبي، والتجاوز، والإنذار، والتدفق، وضغط الهواء، وما إلى ذلك على جانب الحامل، ويتم التحكم فيها بواسطة شاشة تعمل باللمس مقاس 14 بوصة؛ يحتوي الجهاز على برنامج تحكم أوتوماتيكي بالكامل دون تدخل يدوي، ويمكنه تخزين البيانات واستدعاء البيانات |
| موضع سحب الهواء: يوجد مدخل الهواء في أعلى الجرة، وموضع منفذ العادم أسفل حامل العينة مباشرةً; | نظام التحكم | |
| نظام التحكم: وحدة تحكم PLC + شاشة تعمل باللمس مقاس 10 بوصة | مجموعة من نظام التحكم التلقائي في الضغط (صمام التحكم في الضغط الأصلي مستورد من ألمانيا) | |
| نظام النفخ: مقياس تدفق الكتلة بقناتين، نطاق التدفق: 0-2000 سم مكعب و 0-200 سم مكعب؛ صمام صمام هوائي | مقياس تفريغ المقاومة | |
| 3.1.10 مضخة تفريغ: مضخة تفريغ D16C | ||
فهم ترسيب الماس HFCVD
تستند عملية الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي بالفتيل الساخن (HFCVD) لإنشاء أغشية الماس على مبدأ العمل التالي: يتم خلط جو يحتوي على الكربون مع الهيدروجين فائق التشبع، ويتم تنشيطه (عادةً بواسطة خيوط ساخنة)، ثم يتم تمريره فوق الركيزة. وفي ظل ظروف يتم التحكم فيها بدقة - بما في ذلك تركيبة الغلاف الجوي وطاقة التنشيط ودرجة حرارة الركيزة والمسافة بين الركيزة ومصدر التنشيط - يتم ترسيب طبقة من الماس. ومن المفهوم عموماً أن تنوي ونمو أغشية الماس يحدث على ثلاث مراحل:
- التنشيط وتشكيل الطبقة الانتقالية: يتحلل الغاز المحتوي على الكربون وغاز الهيدروجين عند درجة حرارة معينة إلى كربون وذرات هيدروجين وجذور حرة نشطة أخرى. وتتحد هذه مع الركيزة لتشكل أولاً طبقة انتقالية رقيقة جدًا من الكربيد.
- تنوي الماس: ترسب ذرات الكربون نوى الماس على الطبقة الانتقالية المتكونة على الركيزة.
- نمو الطبقة: تنمو نوى بلورات الماس المشكّلة إلى حبيبات ماسية دقيقة في بيئة مناسبة، ثم تستمر في النمو لتصبح طبقة ماسية متماسكة.
المزايا الرئيسية لنظامنا HFCVD وطلاءات الماس النانو ماسي
يستخدم قالب سحب الطلاء المركب بالماس النانوي المركب، الذي يستخدم كربيد الأسمنت (WC-Co) كركيزة، طريقة الطور الكيميائي للبخار (CVD) لترسيب طلاء مركب تقليدي من الماس والماس النانوي المركب على سطح الثقب الداخلي للقالب. وينتج عن ذلك منتج جديد تماماً بعد طحن الطلاء وتلميعه. لا يُظهر الطلاء المركب النانوي الماسي النانوي خاصية الالتصاق القوي ومقاومة التآكل التي تتميز بها الطلاءات الماسية التقليدية فحسب، بل يوفر أيضاً مزايا السطح المسطح الأملس ومعامل الاحتكاك الصغير وسهولة الطحن والتلميع المتأصلة في الطلاءات النانوية الماسية. وتحلّ هذه التقنية التحديات التقنية المتعلقة بالتصاق الطلاء وتتغلب على عنق الزجاجة المتمثل في صعوبة صقل أسطح الطلاء بالماس، ما يزيل العقبات التي تحول دون تصنيع أغشية الماس بتقنية CVD.
|
المؤشرات الفنية |
قالب الرسم التقليدي |
قالب الرسم المطلي بالماس النانوي |
|
حجم حبيبات سطح الطلاء |
لا يوجد |
20 ~ 80 نانومتر |
|
محتوى طلاء الماس المطلي |
لا شيء |
≥99% |
|
سماكة طلاء الماس |
لا يوجد |
10 ~ 15 مم |
|
خشونة السطح |
Ra≤0.1 مم |
الفئة أ: Ra≤0.1 مم الفئة ب: Ra≤0.05 مم |
|
نطاق قطر الثقب الداخلي لقالب الرسم بالطلاء |
Ф3 ~ Ф70 مم |
Ф3 ~ Ф70 مم |
|
العمر الافتراضي للخدمة |
يعتمد العمر الافتراضي على ظروف العمل |
6-10 مرات أطول |
|
معامل الاحتكاك السطحي |
0.8 |
0.1 |
مزايا التصميم المحددة لنظام KINTEK's HFCVD:
- منصة رفع القالب الدقيقة: من أجل التوازي والاستقامة لمنصة رفع القالب، أنتجت شركتنا أدوات منتجة خصيصًا. تسمح طريقة الرفع ثنائية المحور برفع وخفض الطرفين بحوالي ± 0.02 مم (2 سلك)، مما يتيح إنشاء قوالب أصغر حجمًا وعالية الدقة.
- التكامل الأمثل للأدوات: تقوم شركتنا بدمج موقع كل مكوّن على الأدوات، مع التركيز على أدوات القالب والعملية. وهذا يضمن أدوات وتثبيت جيدة، وتشغيل مستقر وموثوق، ودقة عالية، وسهولة الاستخدام.
- تحكم متقدم في الضغط: بينما قد يستخدم المصنعون الآخرون صمامات إغلاق لا يمكن ضبطها خطيًا (تزداد الفجوة بسرعة عند الفتح)، تصمم شركتنا النظام بصمام إغلاق يعتمد على مبادئ التحكم المستقر في الضغط. وهذا يسمح بضبط فجوة الإغلاق خطيًا، مما يحقق تحكمًا مستقرًا في الضغط.
- نظام تحكم أوتوماتيكي بالكامل: يتحكم النظام تلقائيًا في الضغط وفقًا لخوارزميات الكمبيوتر، مما يقلل من عشوائية المشغل ويعزز سرية العملية. وهذا يوفر العمالة ويضمن مزيدًا من الاتساق المثالي في جودة القالب لنفس المواصفات.
- تشغيل مستقر لجرار الجرس: من أجل ثبات جرة جرس الرفع، تستخدم شركتنا محامل ذاتية التشحيم، مما يجعل الدوران أكثر مرونة وخالية من التشويش. تم تصميم النظام لاستيعاب متطلبات عملية طلاء الماس الخاصة بكل عميل.
شريكك في حلول المواد المتقدمة
بالاستفادة من البحث والتطوير الاستثنائي والتصنيع الداخلي، تزود KINTEK المختبرات المتنوعة بحلول أفران متقدمة عالية الحرارة. ويكتمل خط منتجاتنا، بما في ذلك الأفران الدوارة والأنابيب والأفران الدوارة وأفران التفريغ والغلاف الجوي وأنظمة CVD/PECVD/بيكفيد/MPCVD مثل وحدة HFCVD هذه، بقدرتنا القوية على التخصيص العميق لتلبية المتطلبات التجريبية الفريدة بدقة.
هل أنت مستعد لتحسين عملية طلاء الماس لديك؟
تعرّف على المزيد حول كيفية تصميم نظام HFCVD الخاص بنا HFCVD لتلبية احتياجاتك البحثية أو الإنتاجية المحددة. خبراؤنا مستعدون لمناقشة متطلباتك ومساعدتك في إيجاد الحل الأمثل.
4.9
out of
5
This machine is a game-changer! The nano diamond coating is flawless and super durable. Worth every penny!
4.8
out of
5
Incredible technology! The HFCVD system delivers precision and efficiency like no other. Highly recommend!
4.7
out of
5
Fast delivery and top-notch quality. The coating is ultra-smooth and long-lasting. Impressed!
4.9
out of
5
The HFCVD machine exceeded expectations. The nano diamond coating is perfect for high-performance applications.
4.8
out of
5
Outstanding value for money. The machine is robust and the coating is incredibly wear-resistant.
4.7
out of
5
A technological marvel! The nano diamond coating process is seamless and highly efficient.
4.9
out of
5
The HFCVD system is a must-have for precision coating. The results are consistently outstanding.
4.8
out of
5
Superior quality and durability. The nano diamond coating is perfect for industrial use.
4.7
out of
5
Fast, efficient, and reliable. The HFCVD machine delivers exceptional coating every time.
4.9
out of
5
The best investment for high-quality nano diamond coating. Performance is unmatched!
4.8
out of
5
Exceptional machine with cutting-edge technology. The coating is ultra-durable and precise.
4.7
out of
5
The HFCVD system is a powerhouse. Delivers consistent, high-quality results effortlessly.
4.9
out of
5
Perfect for industrial applications. The nano diamond coating is tough and long-lasting.
4.8
out of
5
Highly advanced and efficient. The HFCVD machine is a top performer in its class.
4.7
out of
5
Reliable and high-performing. The nano diamond coating is flawless and durable.
4.9
out of
5
The HFCVD system is a masterpiece. Delivers superior coating with unmatched precision.
اطلب اقتباس
سيقوم فريقنا المحترف بالرد عليك في غضون يوم عمل واحد. لا تتردد في الاتصال بنا!
المنتجات ذات الصلة
فرن أنبوبي CVD متعدد الاستخدامات مصنوع خصيصًا آلة معدات الترسيب الكيميائي للبخار CVD
يوفر الفرن الأنبوبي CVD الأنبوبي من KINTEK تحكمًا دقيقًا في درجة الحرارة حتى 1600 درجة مئوية، وهو مثالي لترسيب الأغشية الرقيقة. قابل للتخصيص لتلبية الاحتياجات البحثية والصناعية.
نظام الترسيب الكيميائي المعزز بالبخار المعزز بالبلازما بالترددات الراديوية PECVD
نظام KINTEK RF PECVD: ترسيب دقيق للأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات والبصريات وأجهزة MEMS. عملية مؤتمتة ذات درجة حرارة منخفضة مع جودة رقيقة فائقة. حلول مخصصة متاحة.
ماكينة KINTEK MPCVD للماس: تركيب الماس عالي الجودة بتقنية MPCVD المتقدمة. نمو أسرع، ونقاء فائق، وخيارات قابلة للتخصيص. زيادة الإنتاج الآن!
نظام آلة MPCVD ذات الرنين الأسطواني لنمو الماس في المختبر
أنظمة KINTEK MPCVD: زراعة أغشية ماسية عالية الجودة بدقة. موثوقة وموفرة للطاقة وصديقة للمبتدئين. يتوفر دعم الخبراء.
فرن أنبوبة التفريغ CVD ذو الغرفة المنقسمة مع ماكينة التفريغ CVD للمحطة
فرن أنبوبي CVD ذو الغرفة المنقسمة مع محطة تفريغ - فرن مختبري عالي الدقة بدرجة حرارة 1200 درجة مئوية لأبحاث المواد المتقدمة. حلول قابلة للتخصيص متاحة.
وصلة تغذية القطب الكهربائي فائق التفريغ من خلال موصل شفة التغذية الكهربائية للتطبيقات عالية الدقة
مغذيات أقطاب كهربائية فائقة التفريغ لتوصيلات موثوقة ذات جهد فائق. خيارات شفة عالية الإغلاق وقابلة للتخصيص، مثالية لأشباه الموصلات والتطبيقات الفضائية.
مفاعل نظام الماكينة MPCVD مفاعل جرس الجرس الرنان للمختبر ونمو الماس
أنظمة KINTEK MPCVD: ماكينات دقيقة لنمو الماس من أجل ماس عالي النقاء مزروع في المختبر. موثوقة وفعالة وقابلة للتخصيص للأبحاث والصناعة.
الفرن الأنبوبي PECVD الشرائحي PECVD مع ماكينة PECVD الغازية السائلة PECVD
فرن أنبوب KINTEK Slide PECVD الأنبوبي: ترسيب دقيق للأغشية الرقيقة مع بلازما الترددات اللاسلكية والدورة الحرارية السريعة والتحكم في الغاز القابل للتخصيص. مثالي لأشباه الموصلات والخلايا الشمسية.
فرن التلبيد بالبلازما الشرارة SPS
اكتشف فرن التلبيد بالبلازما الشرارة (SPS) المتطور من KINTEK لمعالجة المواد بسرعة ودقة. حلول قابلة للتخصيص للأبحاث والإنتاج.
فرن أنبوبي كوارتز مختبري أنبوبي التسخين RTP
يوفر فرن أنبوب التسخين السريع RTP من KINTEK تحكمًا دقيقًا في درجة الحرارة، وتسخينًا سريعًا يصل إلى 100 درجة مئوية/ثانية، وخيارات جو متعددة الاستخدامات للتطبيقات المعملية المتقدمة.
نافذة مراقبة زجاجية من الفولاذ المقاوم للصدأ ذات شفة تفريغ عالية للغاية من الفولاذ المقاوم للصدأ
نافذة عرض من الياقوت الأزرق الياقوتي لأنظمة التفريغ فائقة التفريغ. متينة وشفافة ودقيقة لتطبيقات أشباه الموصلات والفضاء. استكشف المواصفات الآن!
أجراس تفريغ عالية الأداء لتوصيل فعال وتفريغ مستقر في الأنظمة
نافذة مراقبة KF فائقة التفريغ عالية التفريغ مع زجاج البورسليكات العالي لرؤية واضحة في البيئات الصعبة 10^-9 تور. شفة متينة من الفولاذ المقاوم للصدأ 304.
مجموعة ختم القطب الكهربي للتفريغ بشفة CF KF شفة التفريغ الكهربائي لأنظمة التفريغ
مغذي قطب تفريغ شفة CF/KF موثوق به لأنظمة التفريغ عالية الأداء. يضمن إحكامًا فائقًا وموصلية ومتانة فائقة. خيارات قابلة للتخصيص متاحة.
آلة فرن أنبوب CVD متعدد مناطق التسخين الذاتي CVD لمعدات ترسيب البخار الكيميائي
توفر أفران KINTEK الأنبوبية متعددة المناطق CVD الأنبوبية تحكمًا دقيقًا في درجة الحرارة لترسيب الأغشية الرقيقة المتقدمة. مثالية للبحث والإنتاج، وقابلة للتخصيص لتلبية احتياجات مختبرك.
آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسَّن بالبلازما الدوارة المائلة PECVD
توفر ماكينة طلاء PECVD من KINTEK أغشية رقيقة دقيقة في درجات حرارة منخفضة لمصابيح LED والخلايا الشمسية و MEMS. حلول قابلة للتخصيص وعالية الأداء.
آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسَّن بالبلازما الدوارة المائلة PECVD
فرن أنبوبي PECVD متقدم لترسيب دقيق للأغشية الرقيقة. تسخين موحد، مصدر بلازما الترددات اللاسلكية، تحكم بالغاز قابل للتخصيص. مثالي لأبحاث أشباه الموصلات.
موصِّل قابس قابس شفة تفريغ الهواء فائق التفريغ للفضاء والمختبرات. متوافق مع KF/ISO/CF، محكم الإغلاق بمقدار 10⁹ ملي بار، معتمد من MIL-STD. متين وقابل للتخصيص.
صمام إيقاف كروي كروي عالي التفريغ من الفولاذ المقاوم للصدأ 304 316 لأنظمة التفريغ
تضمن صمامات التفريغ الكروية والصمامات الحابسة المصنوعة من الفولاذ المقاوم للصدأ 304/316 من KINTEK إحكامًا عالي الأداء للتطبيقات الصناعية والعلمية. استكشف الحلول المتينة والمقاومة للتآكل.