CVD & PECVD Furnace
فرن أنبوبي CVD متعدد الاستخدامات مصنوع خصيصًا آلة معدات الترسيب الكيميائي للبخار CVD
رقم العنصر : KT-CTF16
السعر يتغير بناءً على المواصفات والتخصيصات
- درجة الحرارة القصوى
- 1600℃
- دقة التحكم في درجة الحرارة
- ±1℃
- ضغط التفريغ (خيار التفريغ العالي)
- 6×10-5 باسكال
الشحن:
اتصل بنا للحصول على تفاصيل الشحن استمتع ضمان التسليم في الموعد المحدد.
أفران KINTEK الأنبوبية المتطورة ذات التفريغ القابل للتبريد المتتابع: الدقة وتعدد الاستخدامات والتخصيص
من خلال الاستفادة من البحث والتطوير الاستثنائي والتصنيع الداخلي، توفر KINTEK للمختبرات المتنوعة والعملاء الصناعيين حلول أفران متقدمة عالية الحرارة. ويدعم خط إنتاجنا الشامل، بما في ذلك أفران الدفن، والأفران الأنبوبية، والأفران الدوارة، وأفران التفريغ والغلاف الجوي، وأنظمة CVD/PECVD/MPCVD المتخصصة، قدرتنا القوية على التخصيص العميق. نحن ملتزمون بتلبية متطلباتك التجريبية والإنتاجية الفريدة بدقة.
نظرة عامة على المنتج: فرن أنبوبة CVD الأنبوبي عالي الأداء
صُمم فرن KINTEK الأنبوبي للترسيب الكيميائي بالبخار (CVD) بدقة للعمليات التي تتطلب تحكمًا دقيقًا في درجة الحرارة والغلاف الجوي وتدفق الغاز. وهو مثالي لترسيب أغشية رقيقة عالية الجودة من مواد مختلفة، بما في ذلك المواد العازلة والمعدنية والسبائك المعدنية، وهي مواد ضرورية للأبحاث والتطبيقات الصناعية. تتميز أفران التفريغ القابل للذوبان القابل للذوبان CVD عادةً بمناطق تسخين متعددة لتوحيد درجة الحرارة بشكل فائق، وأنظمة تفريغ قوية، ومحطات متطورة للتحكم في تدفق الغازات ذات التدفق الكتلي من أجل توصيل السلائف بدقة. واعتمادًا على التكوين، يمكن لهذه الأنظمة تحقيق درجات حرارة تصل إلى 1600 درجة مئوية (كما هو الحال في طراز KT-CTF16-60) ومستويات تفريغ تصل إلى 6 × 10 -5 باسكال مع خيارات التفريغ العالي.
الفوائد والمميزات الرئيسية
صُممت أفراننا الأنبوبية ذات التفريغ القابل للذوبان القابل للتبريد المركزي لتوفر أداءً استثنائيًا وموثوقية استثنائية لعملياتك الحرجة:
- تحكم دقيق في درجة الحرارة وتوحيدها: يضمن التسخين متعدد المناطق (على سبيل المثال، 3 × 300 مم في KT-CTF16-60) وأجهزة التحكم PID المتقدمة (دقة ± 1 درجة مئوية) ملامح درجة حرارة ثابتة وموحدة، وهي ضرورية لجودة الفيلم المتسقة.
- تشغيل متعدد الاستخدامات في درجات حرارة عالية: قادرة على الوصول إلى درجات حرارة عالية (على سبيل المثال، درجة حرارة عمل ثابتة تصل إلى 1600 درجة مئوية 1550 درجة مئوية لطراز KT-CTF16-60)، وهي مناسبة لمجموعة واسعة من عمليات التفكيك المقطعي بالبطاقات CVD وتركيبات المواد.
- إدارة الغاز المتقدمة: تسمح أنظمة التحكم في التدفق الكتلي متعدد القنوات (MFC) بالخلط الدقيق وتوصيل الغازات المتفاعلة، مع خطية عالية (± 0.5% من التدفق الكتلي) وقابلية التكرار (± 0.2% من التدفق الكتلي).
- قدرات مرنة للتفريغ والغلاف الجوي: يمكن تهيئة الأنظمة لمستويات تفريغ مختلفة، من مضخات الريشة الدوارة القياسية (على سبيل المثال، 10 باسكال) إلى محطات المضخات الجزيئية ذات التفريغ العالي (على سبيل المثال، 6 × 10 -5 باسكال)، أو تعمل تحت أجواء خاملة/متفاعلة خاضعة للتحكم.
- بناء متين: يستخدم أنابيب أفران عالية النقاء (على سبيل المثال، Al 2 O 3 ) ومواد عالية الجودة للغرفة (على سبيل المثال، ألياف الألومينا متعددة البلورات) لطول العمر وسلامة العملية.
- واجهة سهلة الاستخدام: خيارات لوحدات التحكم PID الرقمية أو وحدات التحكم PID ذات الشاشة التي تعمل باللمس توفر تشغيلًا بديهيًا وتسجيل البيانات وإعدادًا سهلًا.
- تصميم قابل للتخصيص: مصممة حسب احتياجاتك الخاصة، من قطر الأنبوب وطول منطقة التسخين إلى قنوات الغاز ومكونات التفريغ.
- مدمجة وفعالة: مصممة لتكون موفرة للمساحة دون المساومة على الأداء، مما يجعلها مناسبة لمختلف البيئات المعملية والصناعية.
المواصفات الفنية (مثال: الموديل KT-CTF16-60)
المواصفات التالية خاصة بطراز KT-CTF16-60. يرجى ملاحظة أنه يمكن تخصيص المواصفات حسب متطلباتك.
| طراز الفرن | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| درجة الحرارة القصوى | 1600℃ |
| درجة حرارة عمل ثابتة | 1550℃ |
| مادة أنبوب الفرن | أنبوب Al2O3 عالي النقاء |
| قطر أنبوب الفرن | 60 مم |
| منطقة التسخين | 3 × 300 مم |
| مادة الغرفة | ألياف الألومينا متعددة الكريستالات |
| عنصر التسخين | كربيد السيليكون |
| معدل التسخين | 0-10 ℃/دقيقة |
| الزوج الحراري | نوع S |
| وحدة تحكم في درجة الحرارة | جهاز تحكم رقمي PID/جهاز تحكم PID بشاشة تعمل باللمس |
| دقة التحكم في درجة الحرارة | ±1℃ |
| وحدة تحكم دقيقة في الغاز | |
| مقياس التدفق | مقياس التدفق الكتلي MFC |
| قنوات الغاز | 3 قنوات (قابلة للتخصيص) |
| معدل التدفق (مثال) |
mfc1: 0-5 sccm o2
mfc2: 0-20 سم مكعب ch4 mfc3: 0- 100 sccm h2 MFC4: 0-500 SCCM N2 (قابل للتخصيص) |
| الخطية | ± 0.5% ف.س. |
| التكرار | ± 0.2٪ ف.س. |
| خط الأنابيب والصمام | الفولاذ المقاوم للصدأ |
| ضغط التشغيل الأقصى | 0.45 ميجا باسكال |
| وحدة تحكم في مقياس التدفق | وحدة تحكم رقمية بمقبض رقمي/وحدة تحكم بشاشة تعمل باللمس |
| وحدة تفريغ قياسية (اختياري) | |
| مضخة تفريغ | مضخة تفريغ ذات ريشة دوارة |
| معدل تدفق المضخة | 4 لتر/ثانية |
| منفذ شفط التفريغ | KF25 |
| مقياس التفريغ | مقياس تفريغ بيرانى/مقياس تفريغ السيليكون |
| ضغط التفريغ المقدر | 10 باسكال |
| وحدة تفريغ عالية التفريغ (اختياري) | |
| مضخة تفريغ | مضخة ريشة دوارة + مضخة جزيئية |
| معدل تدفق المضخة | 4 لتر/ثانية + 110 لتر/ثانية |
| منفذ شفط التفريغ | KF25 |
| مقياس التفريغ | مقياس التفريغ المركب |
| ضغط التفريغ المقدر | 6×10-5 باسكال |
| يمكن تخصيص المواصفات والإعدادات المذكورة أعلاه | |
تكوينات نظام التفريغ القابل للتخصيص
في KINTEK، نحن متخصصون في تصميم أنظمة أفران التفريغ القابل للتبريد القابل للتبريد CVD الخاصة بنا وفقًا لاحتياجاتك البحثية أو الإنتاجية الدقيقة. استكشف بعض الأمثلة على إعداداتنا المتنوعة والقابلة للتخصيص:
مبدأ التشغيل
الترسيب الكيميائي للبخار الكيميائي (CVD) هو تقنية ترسيب الأغشية الرقيقة متعددة الاستخدامات حيث يتم تشكيل مادة صلبة على ركيزة ساخنة من المتفاعلات الغازية. في فرن KINTEK CVD الأنبوبي، يتم وضع الركيزة داخل أنبوب عالي النقاء (عادةً الكوارتز أو الألومينا) ويتم تسخينها إلى درجة حرارة يتم التحكم فيها بدقة. يتم إدخال خليط مقنن بعناية من الغازات السليفة في الأنبوب عبر نظام التحكم في التدفق الكتلي. تتفاعل هذه الغازات أو تتحلل عند أو بالقرب من سطح الركيزة الساخنة، مما يؤدي إلى ترسيب الطبقة الرقيقة المطلوبة. تشمل الجوانب التشغيلية الرئيسية ما يلي:
- بيئة عالية الحرارة: يخلق الفرن منطقة مستقرة ذات درجة حرارة عالية ضرورية للتفاعلات الكيميائية.
- التحكم في تدفق الغاز: تضمن أجهزة التحكم في التدفق الكتلي (MFCs) توصيل دقيق وقابل للتكرار للسلائف والغازات الحاملة.
- التفريغ أو الغلاف الجوي المتحكم فيه: يزيل نظام التفريغ الملوثات والمنتجات الثانوية غير المرغوب فيها، أو يمكن الحفاظ على جو متحكم فيه (خامل أو تفاعلي) للتأثير على كيمياء الترسيب. قد تستخدم بعض الأنظمة تفريغ توهج الترددات الراديوية (RF) أو تقنيات تعزيز البلازما الأخرى لترسيب درجة حرارة أقل أو معدلات ترسيب أعلى.
- نمو غشاء موحد: يعمل التصميم الدقيق لمناطق التسخين وديناميكيات تدفق الغاز على تعزيز سمك وتكوين الفيلم الموحد عبر الركيزة.
تُستخدم هذه العملية على نطاق واسع في تصنيع أشباه الموصلات والخلايا الشمسية والطلاءات الواقية والمواد النانوية وغيرها من الأجهزة الإلكترونية والبصرية المتقدمة.
مجموعة واسعة من التطبيقات
تعد أفران KINTEK الأنبوبية متعددة المناطق CVD متعددة المناطق أدوات لا غنى عنها في مختلف القطاعات البحثية والصناعية:
- تخليق المواد النانوية: مثالية لزراعة الأسلاك النانوية والأنابيب النانوية (مثل الأنابيب النانوية الكربونية) وتحضير الأغشية النانوية لتطوير المواد المتقدمة.
- تقنيات الطلاء المتقدمة: تُستخدم على نطاق واسع لترسيب الأغشية المعدنية والأغشية الخزفية (الأكاسيد والنتريدات والكربيدات) والأغشية المركبة لتعزيز خصائص السطح مثل الصلابة أو مقاومة التآكل أو التوصيل.
- أشباه الموصلات والإلكترونيات: ضروري لترسيب الطبقات العازلة وأشباه الموصلات والطبقات الموصلة في تصنيع الدوائر المتكاملة وأجهزة الاستشعار والمكونات الإلكترونية الأخرى.
- معالجة مواد البطاريات: مناسبة للتجفيف والتلبيد والتعديل السطحي لمواد البطاريات لأجهزة تخزين الطاقة عالية الأداء.
- التلبيد والتلدين بدرجة حرارة عالية: تُستخدم لعمليات التلبيد في الغلاف الجوي في درجات حرارة عالية، وتقليل الغلاف الجوي، وعمليات التلدين لتكثيف المواد وصقل الخصائص.
- طلاء الفراغ والغلاف الجوي: قدرات تفريغ الهواء العالية تجعلها مثالية للتطبيقات التي يكون فيها نقاء الطلاء وجودته أمرًا بالغ الأهمية.
- البحث والتطوير: يُستخدم على نطاق واسع في الجامعات ومعاهد البحث العلمي لدراسات علوم المواد الأساسية، بما في ذلك تجارب CVD/CVI (الترشيح الكيميائي للبخار).
- العمليات المعززة بالبلازما: يمكن تكييفها من أجل CVD المحسّن بالبلازما (PECVD)، والتنظيف بالبلازما، والحفر، مما يوسع من تنوعها الوظيفي.
الحزمة القياسية (مثال على KT-CTF16-60)
| لا يوجد | الوصف | الكمية |
|---|---|---|
| 1 | جسم الفرن مع التحكم في درجة الحرارة | 1 |
| 2 | أنبوب ألومينا أو كوارتز عالي النقاء (حسب الطلب) | 1 |
| 3 | شفاه ختم الفراغ مع منافذ | 2 مجموعة |
| 4 | الكتل الحرارية الأنبوبية/المقابس الحرارية | 2 |
| 5 | خطاف الكتلة الحرارية الأنبوبية | 1 |
| 6 | قفازات مقاومة للحرارة | 1 زوج |
| 7 | وحدة تحكم دقيقة في الغازات (MFCs حسب الطلب) | 1 طقم |
| 8 | وحدة التفريغ (مضخة ومقياس حسب الطلب) | 1 طقم |
| 9 | دليل التشغيل | 1 |
الإعدادات والتخصيصات الاختيارية
عزز نظام CVD الخاص بك بمجموعة من الميزات الاختيارية لتلبية الاحتياجات التجريبية المحددة:
- أنظمة كشف ومراقبة الغازات داخل الأنبوب (على سبيل المثال، لـ H2، O2، إلخ).
- وحدات مراقبة درجة حرارة الفرن المستقلة ووحدات تسجيل البيانات.
- منفذ اتصال RS 485 للتحكم عن بُعد بالكمبيوتر الشخصي وتصدير البيانات.
- خيارات متنوعة للتحكم في معدل تدفق تغذية الغاز، بما في ذلك نطاقات مختلفة لمقاييس التدفق الكتلي ومقاييس التدفق العائم.
- وحدات تحكم متقدمة في درجة الحرارة بشاشة تعمل باللمس مزودة بوظائف متعددة الاستخدامات وسهلة الاستخدام للمشغل (على سبيل المثال، منحدرات قابلة للبرمجة، وتسجيل البيانات).
- إعدادات محطة مضخات تفريغ عالية مطورة، تتضمن خيارات مثل مضخات التفريغ ذات الريشة أو المضخات الجزيئية أو مضخات الانتشار.
- أنظمة توصيل السلائف السائلة/الصلبة (مثل الفقاعات والمبخرات).
- أنظمة تخفيف غاز العادم.
الشراكة مع KINTEK لحلول CVD الخاصة بك
هل أنت مستعد للارتقاء بعملياتك البحثية أو الصناعية باستخدام فرن أنبوب CVD الأنبوبي المتطور؟ يكرس فريق KINTEK جهوده لتزويدك بنظام يتماشى تمامًا مع متطلبات تطبيقك، مدعومًا بخبرتنا في تكنولوجيا درجات الحرارة العالية والتخصيص.
اتصل بنا اليوم لمناقشة احتياجاتك الخاصة، أو استكشاف خيارات التخصيص، أو طلب عرض أسعار مفصل. دعنا نساعدك على تحقيق نتائج لا مثيل لها في مساعي ترسيب المواد الخاصة بك.
FAQ
ما هو الفرن الأنبوبي وكيف يعمل؟
ما هي التطبيقات الرئيسية للأفران الأنبوبية متعددة المناطق؟
ما هو مبدأ ماكينة التفريغ المقطعي الذاتي CVD؟
ما هو الفرن الأنبوبي العمودي؟
ما هو فرن الحث الفراغي؟
ما هي التطبيقات الرئيسية لفرن التفريغ؟
فيمَ تُستخدم آلة PECVD؟
فيمَ يُستخدم فرن الغلاف الجوي؟
ما هي التطبيقات الرئيسية للأفران الأنبوبية؟
ما هي الميزات الرئيسية للأفران الأنبوبية متعددة المناطق؟
ما هي مزايا استخدام ماكينة CVD؟
ما هي تطبيقات الفرن الأنبوبي العمودي؟
ما هي التطبيقات الرئيسية لأفران الحث الفراغية؟
ما هي السمات الرئيسية للفرن المفرغ من الهواء؟
ما هي الأنواع الرئيسية لماكينات PECVD؟
ما هي السمات الرئيسية لفرن الغلاف الجوي؟
ما هي مزايا استخدام الفرن الأنبوبي؟
كيف يعمل الفرن الأنبوبي متعدد المناطق؟
ما هي استخدامات آلة التفريغ القابل للذوبان CVD؟
ما هي مزايا الفرن الأنبوبي العمودي؟
كيف يعمل فرن الحث الفراغي؟
كيف يعمل فرن التفريغ؟
كيف تعمل آلة PECVD؟
كيف يعمل فرن الغلاف الجوي؟
ما أنواع الأفران الأنبوبية المتوفرة؟
ما هي مزايا استخدام الفرن الأنبوبي متعدد المناطق؟
ما هي السمات الرئيسية لماكينة CVD؟
كيف يعمل الفرن الأنبوبي العمودي؟
ما هي مزايا استخدام فرن الحث الفراغي؟
ما هي مزايا استخدام فرن التفريغ؟
ما هي السمات الرئيسية لماكينة PECVD؟
ما هي مزايا استخدام فرن الغلاف الجوي؟
ما هي نطاقات درجات الحرارة التي يمكن أن تحققها الأفران الأنبوبية؟
ما أنواع الأفران الأنبوبية متعددة المناطق المتوفرة؟
ما هي أنواع ماكينات التفريغ القابل للسحب بالأشعة القلبية CVD المتوفرة؟
ما أنواع الأفران الأنبوبية الرأسية المتوفرة؟
ما أنواع أفران التفريغ الحثي المتوفرة؟
ما أنواع المواد التي يمكن معالجتها في فرن التفريغ؟
ما هي مزايا استخدام آلة PECVD؟
ما أنواع الغازات التي يمكن استخدامها في فرن الغلاف الجوي؟
هل يمكن أن تعمل الأفران الأنبوبية تحت أجواء مختلفة؟
لماذا تختار الفرن الأنبوبي العمودي بدلاً من الأفقي؟
لماذا يعتبر التحكم في درجة الحرارة مهمًا في أفران الحث بالتفريغ؟
ما هو الفرق بين أفران التفريغ بالجدار الساخن وأفران التفريغ بالجدار البارد؟
ما هي المواد التي يمكن ترسيبها باستخدام آلة PECVD؟
ما هي ميزات السلامة المتوفرة في أفران الغلاف الجوي المتقدمة؟
ما الذي يجعل أفران KINTEK الأنبوبية مميزة؟
ما هي درجات الحرارة التي يمكن أن تحققها الأفران الأنبوبية العمودية؟
ما هي المواد التي يمكن معالجتها في فرن التفريغ بالحث؟
هل يمكن تخصيص أفران تفريغ الهواء لتطبيقات محددة؟
لماذا يفضل PECVD على طرق الترسيب الأخرى؟
هل الأفران الأنبوبية الرأسية قابلة للتخصيص؟
كيف تفيد بيئة التفريغ معالجة المواد؟
4.9
out of
5
Incredible precision and durability! This CVD furnace exceeded all expectations. Worth every penny!
4.8
out of
5
Fast delivery and top-notch quality. The machine works flawlessly—highly recommend!
4.7
out of
5
A game-changer for our lab! The versatility and performance are unmatched.
4.9
out of
5
Exceptional craftsmanship and advanced technology. Perfect for high-precision tasks.
4.8
out of
5
Superb value for money. The machine is robust and delivers consistent results.
4.7
out of
5
Impressive speed and efficiency. This CVD furnace is a must-have for any serious researcher.
4.9
out of
5
Outstanding performance! The custom features make it stand out from the competition.
4.8
out of
5
Reliable and high-quality. The machine arrived sooner than expected—very pleased!
4.7
out of
5
Perfect for our research needs. The CVD furnace is both powerful and user-friendly.
4.9
out of
5
Top-tier technology at an affordable price. Couldn’t be happier with this purchase!
4.8
out of
5
The machine is a beast! Handles everything we throw at it with ease.
4.7
out of
5
Fantastic investment. The CVD furnace has significantly boosted our productivity.
4.9
out of
5
Absolutely love it! The build quality and performance are second to none.
4.8
out of
5
Quick setup and flawless operation. This machine is a dream come true for our team.
4.7
out of
5
Highly efficient and reliable. The CVD furnace has transformed our workflow.
4.9
out of
5
Exceptional value and performance. This machine is a true workhorse.
4.8
out of
5
The best CVD furnace we’ve used. Delivers consistent, high-quality results every time.
4.7
out of
5
Impressive build and advanced features. A fantastic addition to our lab.
4.9
out of
5
Worth every cent! The machine is durable, efficient, and incredibly versatile.
4.8
out of
5
Fast shipping and excellent customer service. The CVD furnace is a masterpiece!
اطلب اقتباس
سيقوم فريقنا المحترف بالرد عليك في غضون يوم عمل واحد. لا تتردد في الاتصال بنا!
المنتجات ذات الصلة
فرن أنبوبة التفريغ CVD ذو الغرفة المنقسمة مع ماكينة التفريغ CVD للمحطة
فرن أنبوبي CVD ذو الغرفة المنقسمة مع محطة تفريغ - فرن مختبري عالي الدقة بدرجة حرارة 1200 درجة مئوية لأبحاث المواد المتقدمة. حلول قابلة للتخصيص متاحة.
آلة فرن أنبوب CVD متعدد مناطق التسخين الذاتي CVD لمعدات ترسيب البخار الكيميائي
توفر أفران KINTEK الأنبوبية متعددة المناطق CVD الأنبوبية تحكمًا دقيقًا في درجة الحرارة لترسيب الأغشية الرقيقة المتقدمة. مثالية للبحث والإنتاج، وقابلة للتخصيص لتلبية احتياجات مختبرك.
الفرن الأنبوبي الدوار متعدد مناطق التسخين المنفصل متعدد المناطق الدوارة
فرن أنبوبي دوّار دقيق متعدد مناطق التسخين المنفصل متعدد المناطق لمعالجة المواد ذات درجة الحرارة العالية، يتميز بإمالة قابلة للتعديل، ودوران 360 درجة، ومناطق تسخين قابلة للتخصيص. مثالي للمختبرات.
فرن الأنبوب الدوار المائل الدوار للمختبر فرن الأنبوب الدوار المائل للمختبر
فرن KINTEK المختبري الدوار: تسخين دقيق للتكليس والتجفيف والتلبيد. حلول قابلة للتخصيص مع تفريغ الهواء والغلاف الجوي المتحكم فيه. تعزيز البحث الآن!
فرن أنبوبي كوارتز مختبري أنبوبي التسخين RTP
يوفر فرن أنبوب التسخين السريع RTP من KINTEK تحكمًا دقيقًا في درجة الحرارة، وتسخينًا سريعًا يصل إلى 100 درجة مئوية/ثانية، وخيارات جو متعددة الاستخدامات للتطبيقات المعملية المتقدمة.
فرن أنبوبي تفريغي مختبري عالي الضغط فرن أنبوبي كوارتز أنبوبي
فرن KINTEK الأنبوبي عالي الضغط: تسخين دقيق يصل إلى 1100 درجة مئوية مع التحكم في الضغط بقوة 15 ميجا باسكال. مثالي للتلبيد ونمو البلورات والأبحاث المعملية. حلول قابلة للتخصيص متاحة.
آلة فرن الضغط الساخن الفراغي فرن أنبوب الضغط الفراغي المسخن
اكتشف فرن KINTEK المتطور للضغط الساخن للأنابيب المفرغة من KINTEK من أجل التلبيد الدقيق بدرجة حرارة عالية والكبس الساخن وربط المواد. حلول قابلة للتخصيص للمختبرات.
فرن أنبوبي مختبري بدرجة حرارة عالية 1700 ℃ مع أنبوب كوارتز أو ألومينا
فرن KINTEK الأنبوبي مع أنبوب الألومينا: تسخين دقيق يصل إلى 1700 درجة مئوية لتخليق المواد، والتحميض القابل للذوبان والتلبيد. مدمج وقابل للتخصيص وجاهز للتفريغ. استكشف الآن!
الفرن الأنبوبي PECVD الشرائحي PECVD مع ماكينة PECVD الغازية السائلة PECVD
فرن أنبوب KINTEK Slide PECVD الأنبوبي: ترسيب دقيق للأغشية الرقيقة مع بلازما الترددات اللاسلكية والدورة الحرارية السريعة والتحكم في الغاز القابل للتخصيص. مثالي لأشباه الموصلات والخلايا الشمسية.
آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسَّن بالبلازما الدوارة المائلة PECVD
توفر ماكينة طلاء PECVD من KINTEK أغشية رقيقة دقيقة في درجات حرارة منخفضة لمصابيح LED والخلايا الشمسية و MEMS. حلول قابلة للتخصيص وعالية الأداء.
فرن أنبوبي مقسم 1200 ℃ فرن أنبوبي كوارتز مختبري مع أنبوب كوارتز
اكتشف فرن الأنبوب المنفصل 1200 ℃ من KINTEK المزود بأنبوب كوارتز للتطبيقات المعملية الدقيقة ذات درجات الحرارة العالية. قابل للتخصيص ومتين وفعال. احصل على جهازك الآن!
آلة فرن أنبوب الترسيب الكيميائي المحسَّن بالبلازما الدوارة المائلة PECVD
فرن أنبوبي PECVD متقدم لترسيب دقيق للأغشية الرقيقة. تسخين موحد، مصدر بلازما الترددات اللاسلكية، تحكم بالغاز قابل للتخصيص. مثالي لأبحاث أشباه الموصلات.
فرن الأنبوب الدوَّار الأنبوبي الدوَّار المحكم الغلق بالتفريغ المستمر
فرن أنبوبي دوّار دقيق للمعالجة المستمرة بالتفريغ. مثالي للتكلس والتلبيد والمعالجة الحرارية. قابل للتخصيص حتى 1600 درجة مئوية.
نظام الترسيب الكيميائي المعزز بالبخار المعزز بالبلازما بالترددات الراديوية PECVD
نظام KINTEK RF PECVD: ترسيب دقيق للأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات والبصريات وأجهزة MEMS. عملية مؤتمتة ذات درجة حرارة منخفضة مع جودة رقيقة فائقة. حلول مخصصة متاحة.
نظام آلة MPCVD ذات الرنين الأسطواني لنمو الماس في المختبر
أنظمة KINTEK MPCVD: زراعة أغشية ماسية عالية الجودة بدقة. موثوقة وموفرة للطاقة وصديقة للمبتدئين. يتوفر دعم الخبراء.
فرن التلبيد بالبلازما الشرارة SPS
اكتشف فرن التلبيد بالبلازما الشرارة (SPS) المتطور من KINTEK لمعالجة المواد بسرعة ودقة. حلول قابلة للتخصيص للأبحاث والإنتاج.
ماكينة KINTEK MPCVD للماس: تركيب الماس عالي الجودة بتقنية MPCVD المتقدمة. نمو أسرع، ونقاء فائق، وخيارات قابلة للتخصيص. زيادة الإنتاج الآن!
أجراس تفريغ عالية الأداء لتوصيل فعال وتفريغ مستقر في الأنظمة
نافذة مراقبة KF فائقة التفريغ عالية التفريغ مع زجاج البورسليكات العالي لرؤية واضحة في البيئات الصعبة 10^-9 تور. شفة متينة من الفولاذ المقاوم للصدأ 304.
معدات نظام ماكينات HFCVD لرسم طلاء القوالب النانوية الماسية النانوية
يوفر نظام HFCVD من KINTEK طلاءات ماسية نانوية عالية الجودة لقوالب سحب الأسلاك، مما يعزز المتانة مع صلابة فائقة ومقاومة للتآكل. اكتشف الحلول الدقيقة الآن!